高分子材料であるPTFE（Poly-Tetra-Fluoro-Ethylene）は低誘電率，化学的に安定など優れた特性があり，多くの分野で有要な材料として注目されている。しかし，PTFEは他材料との接着力が弱い欠点を持っている。接着力向上法として，窒素中での高E/n (E：電界，n：粒子密度)放電処理法に着目した。この放電処理は，通常のグロー放電より高域のエネルギー分布を持ち，接着力向上が確認されている。そこで，最大イオンエネルギーに着目し，処理したPTFEの表面エネルギー，XPS(X-ray photoelectron spectroscopy)の表面分析結果と比較し検討することを目的とする。 その結果，気圧が低い条件で表面エネルギーがより向上した。分析結果より金属Fe, Crが影響していると考えられ，1.3keV程度イオンが電極をスパッタし付着したと考えられる。