近年のナノテクノロジーの発展は，半導体作製技術の発達とともにある．この基盤技術となっているのが回路パターンの微細化であり，この微細化には精密位置決めセンサが必要不可欠である．本研究では現在までに回折光を用いた精密位置決めセンサを提案してきた．ナノレベルの位置決めを達成したが，位置決め範囲が限定されていた．そこで本論文では，位置決め範囲を拡大した精密位置決めセンサを提案している．シミュレーションによる結果は実験値とよく一致していることがわかった．また，シミュレーションと実験の結果の評価により実験パラメータの最適条件を検討し，ミリオーダーの領域からの位置決めが可能であることが確認された．