誘導熱プラズマは，その高反応性，高温度，不純物の混入が少ない特徴を活かし，材料分野への応用が活発となっている．しかし，無電極放電のため外部からの擾乱に弱い．これは例えばナノ粒子生成プロセスでは，トーチに導入できる原料粉体の量が限定されることを意味する．筆者らは，この問題の解決のためにタンデム型誘導熱プラズマシステムを開発した．このシステムでは上段・下段コイルでプラズマを維持でき，原料粉体を下段部に導入すれば，より安定したプラズマ粉体プロセスが可能と考えられる．本報告では，タンデム型誘導熱プラズマにおける温度場と流速場を数値解析した．それらの圧力に対する依存性についても検討した．