我々は、陽極酸化を用いてAl基板上にポーラスアルミナとは異なる高度に配向したライン状構造、ドット状構造など様々なナノ構造を作製することに成功した。このナノ構造を用いて高分子（CuPc、C60）のパターニングを試みた結果、ナノ構造に沿う形でパターニングされていることが確認できた。本研究ではこのAl上に作製したナノ構造を用いて導電性高分子ポリアニリン（PA）のナノパターンの作製を行った。また新たな応用段階としてPAナノパターンのSi基板上への転写技術の開発および測定、解析を行った。