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導電性高分子によるナノパターンの作製及びSi基板上への転写
◎森 俊樹・石井圭太・渡邉洋平・加藤ひとし・竹村 進・平松友康(関東学院大学)
我々は、陽極酸化を用いてAl基板上にポーラスアルミナとは異なる高度に配向したライン状構造、ドット状構造など様々なナノ構造を作製することに成功した。このナノ構造を用いて高分子(CuPc、C60)のパターニングを試みた結果、ナノ構造に沿う形でパターニングされていることが確認できた。本研究ではこのAl上に作製したナノ構造を用いて導電性高分子ポリアニリン(PA)のナノパターンの作製を行った。また新たな応用段階としてPAナノパターンのSi基板上への転写技術の開発および測定、解析を行った。