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P3HT/PCBMバルクヘテロ接合太陽電池の活性層へのNileRed分子添加効果
菱沼孝亮・◎横野洋希・木村康孝・萩原純一・西川昌宏・有岡 佑・藤井一秀（鳥取大学）・草野浩幸（鳥取県産業技術センター）・小林洋志・北川雅彦（鳥取大学）
P3HT:PCBMバルクヘテロ接合層に長波長光領域での光吸収用低分子NileRedを添加した素子の膜特性を検討した． P3HT:PCBM:NileRed組成比はモル比により1:1:x(x=0.5,1,2,3,4,5)とした．P3HT:PCBM 膜の光吸収スペクトルのピーク波長510nm に対し，P3HT:PCBM:NileRed膜のそれは長波長側にシフトしており530nm付近となった．NileRed添加膜ではP3HT:PCBM膜と比較しピーク波長での吸光度が増大し，かつNileRed の混合量に依存して増加した．P3HT:PCBM:NileRed膜の膜厚依存性も合わせて検討し，NileRedの最適添加濃度はx=1前後にあるものと推定した．NileRed添加により，未添加バルクヘテロ接合の光吸収を増大でき，分子添加による太陽電池の高効率化が期待できることを示した．