電気学会全国大会講演要旨
2-113
カーボンドローイングおよびエンボシィングによる金属・半導体表面へのナノ構造作製・ナノ構造転写
◎寳井義之・石井篤朗・渡邉洋平・加藤ひとし・竹村 進・平松友康(関東学院大学)
現在SiO2基板上にカーボンドローイングによりグラファイト層が形成されるという報告がある。グラファイトとは、六角形格子が層状に重なっているもので、グラファイトとは六角形格子が一層のみの状態のことをいう。本研究では、このカーボンドローイングにより、SiO2表面にHOPG及び鱗片状黒鉛を用いてナノ構造を作製し、カーボンドローイングを行った各々の表面の観測、解析することを目的とする。また、カーボンドローイングとは異なるエンボシィング方法を用いてSiO2基板上にナノ構造を持ったAl基板のナノ構造の転写を試みた。