モバイルIT機器内のRFICチップにおいて深刻化する高周波ノイズ問題に対し、高透磁率の磁性膜を集積化し、誘導性ノイズを抑制する報告がある.このようなノイズ抑制法におけるメカニズム解明を行う必要がある.そこで、本研究では等価磁気回路を用いてマイクロストリップ伝送線路（MSL）上に集積化した磁性膜における磁束分布を解析的に考察した.