着磁数の自由度に利点を有する「等方性厚膜磁石」は，膜面内方向より外部に取り出す磁界を利用した、ミリサイズモータや摩擦駆動型モータやMEMSへの応用が報告されている。本研究では，エネジ―ハーベストデバイスへの応用を鑑み，PLD(Pulsed Laser Deposition)法を用い「ターゲットのNd含有量」を変化させる事により，試料の剥離を抑制し、Si基板上に等方性Nd-Fe-B系磁石膜を直接成膜することができ、保磁力を中心にその磁気特性を評価したので報告する。