近年，様々な分野での利用を目指した大気圧プラズマ発生機構が数多く研究されており，微細な大気圧プラズマが求められている。しかし，これまでの事例では単一のプラズマジェットのみであり，その制御や機能の自由度に限界があった。 これまで我々は，MEMS技術を用いてアレイ化した微小流路内部で大気圧プラズマを生成し，それぞれ独立制御を行うことにより，高い空間解像力とプラズマパターン制御の自在性を実現可能な微細大気圧プラズマアレイデバイスの製作と評価を行い，2.54mmピッチでのプラズマアレイ生成を実現した。しかし，ガラスとPDMSとの接着力が弱く十分なガス流速を実現することができなかった。そこで，これらの問題を解決するために，従来よりも高い接合強度を得られるシリコンを用いた，新しいプラズマジェットアレイ生成デバイスを製作した。