本論文では，超純水の絶縁破壊電界に対する温度・流量依存性および圧力依存性をそれぞれ取得し，超純水の破壊メカニズムの検討を行う．温度・流量依存性において，超純水の絶縁破壊電界は温度の低下，流量の増加により上昇することが確認できた．圧力依存性においては，超純水の圧力の増加に伴い，絶縁破壊電界が上昇することが確認できた．超純水の絶縁破壊は，ジュール熱による注入熱量によって発生する気泡に起因すると考えられ，温度が低下し，流量が増加すると気泡を発生させるのに多くの熱量が必要となり，圧力の増加が気泡発生を抑制したことにより，超純水の絶縁破壊電界が向上したと考えられる．