ナノスケールの構造をもつテンプレートの開発は、様々なナノデバイスを作製するための重要な課題である。我々は、陽極酸化を用いてAl基板上にポーラスアルミナとは異なる高度に配向したライン状構造、ドット状構造など様々なナノ構造を作製することに成功した。これらの構造をテンプレートとして導電性高分子ポリアニリン(PA)のパターンを作製した。本研究では、集束イオンビーム(FIB)によりマイクロパターンを施したSi表面上にパターン化されたPAの作製を試みた。また、PAの展開条件を変え、安定してパターンを得る条件を模索し、PAの諸特性の測定、解析を行った。ナノ構造として配列突起状構造を用いて、PAのナノスケール構造上への重合を試みた。