本研究室では，現在までにクエン酸浴を用いて作製したFe-Ni電析膜において、Fe22Ni78付近の組成を有する20 m厚程度のFe-Ni電析膜にて1 Oeを下回る低保磁力な軟磁性膜を実現している。デバイスの小型化のためには，高飽和磁化を有する軟磁性材料の適用が有効であり，Fe-Ni合金においてはFe組成の増加が考えられる。従来の我々の検討結果では，Fe組成の増加により磁化は向上するものの，膜質の低下や保磁力の増加などが観測されるため，本稿では，Co添加により良好な膜質や軟磁気特性を維持したまま，Fe22Ni78付近での磁化よりも約1.45倍の磁化の向上を確認した。