Fe-Pt磁石は優れた耐食性を有し，医療・歯科分野への応用が期待されている。磁界発生源として磁石膜を応用する場合，ある程厚い膜厚が必要となる。本研究室では，厚膜作製法として電析法に着目し，現在までに，クエン酸を含むめっき浴から保磁力700 kA/m程度，膜厚20 m程度のFe-Pt厚膜を実現している。本稿では，短時間で所望する膜厚を得ることを目的に，成膜速度の向上としてクエン酸濃度に着目した。渡邊らはクエン酸を含むめっき浴から作製したFe-Ni膜に関して，クエン酸濃度を減少させると電流効率が改善し，成膜速度が向上すると報告している。本稿では，成膜速度の向上を目的に様々なクエン酸濃度のめっき浴からFe-Pt膜を作製し，その影響を検討した。