表面処理技術の1つとして挙げられる大気圧プラズマ溶射において，近年新しい技術としてサスペンションプラズマ溶射が提案されている。本研究では，中空となっている陽極の中心から溶射粒子を供給するアキシャルフィード型プラズマスプレーをモデルとし，プラズマスプレーへ投入する電流値を変更した際のスプレートーチ内部から基材までの軸対称2次元電磁流体解析の結果を用いて粒子軌道解析を行うことにより，粒子軌道の定性的な差異に関する知見を得ることを目的とする。投入電流値を100A，200Aと変化させたが，投入電流が100Aの際は200Aの場合と比較して基材近傍で溶射粒子が中心部から離れていく。これはプラズマジェット中の溶射粒子の滞在時間の差に起因すると考えられる。