筆者らは，熱プラズマによる材料の大面積処理を目指し，ループ型誘導熱プラズマ装置を開発している。この装置はループ型トーチを円型コイルにより挟み込み，トーチ面に垂直な交番磁界を印加して誘導熱プラズマを維持するものである。これにより，基板上に沿うように横方向に長いAr熱プラズマを安定維持できる。本報告では，窒化処理への応用を目的としてN₂/H₂混合ガスを導入しプラズマの発光様相を検討した。基板上に維持したAr/N₂/H₂誘導熱プラズマの発光を観測し，H励起温度分布を評価した。結果として基板上にほぼ一様な温度のプラズマが生成されていることを確認した。これより，材料基板に対して一様な窒化処理ができると期待している。