マクロスケールの磁性材料の解析手法として開発された集合磁区モデルを用いて薄膜磁気インピーダンス素子の磁化過程解析を行う。エネルギー極小化手法として、これまで人工的な状態方程式が用いられてきたが、それにより導かれる安定平衡点が実際の磁化過程に対応しているかは判別できない。そこで最急降下法を用いて探索した解と比較することで、磁化履歴への依存性を検証するとともに、計算時間の短縮も図る。これらの方法により解析した結果、磁化曲線はほぼ一致し、磁化履歴への依存性を確認できた。さらに、最急降下法を用いて計算ステップ数を減らすことに成功した。（266字）